C-43型 国产高精度光刻机 多点光源曝光头

C-43型 国产高精度光刻机 多点光源曝光头

C-43型国产高精度光刻机主要用途是在中小规模集成电路、半导体元器件和声表面波器件的研制和生产中使用。C-43的出色之处在于其的找平机构，这使得它适用于对不同类型的材料进行曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片和宝石片等。

C-43型国产高精度光刻机的工作方式是一次性光刻曝光，即一次完成曝光过程。以下是其主要技术指标：

配置壹件承片台，其尺寸可以根据用户需求进行制造。

曝光头采用多点光源，具备以下特性：

出射光斑直径不超过110mm。

在直径为100mm的范围内，光的不均匀性小于±4%。

能够在真空密封条件下进行曝光。

曝光时间可以通过0.1～999.9秒的时间继电器进行设定。

汞灯的位置可以通过精密的x、y、z调节装置进行调整，分别可以调节±5毫米。

具备风扇冷却装置。

分辨率不低于1μm。

具备真空吸片功能。

具备真空密封和反吹气的功能，通过调节密封真空的大小可以实现硬接触曝光（密封真空≤-0.05 Mpa）、软接触曝光（密封真空在-0.05Mpa～-0.02Mpa之间）和微力接触曝光（密封真空≥-0.02Mpa）。

C-43型国产高精度光刻机主要配置：

一台多点光源曝光头，支持一次性曝光。

曝光面积不小于φ100mm。

曝光不均匀性小于±4%。

曝光强度不低于15mw。

曝光分辨率不高于2μm。

曝光模式为单面曝光。

控制膜版尺寸为5英寸。

基片尺寸为100mm×100mm，厚度不超过5mm。

曝光灯功率为350W。

曝光定时范围为0～999.9秒，可调。

电源要求为单相AC 220V 50Hz，功耗不超过1kW。

需要洁净压缩空气压力不低于0.4Mpa。

可以实现真空度在-0.07Mpa～-0.09Mpa之间。

尺寸为700×650×1200毫米（长×宽×高），重量约为110kg。

备件包括一台真空泵、一只汞灯和15米φ8气管。