紫外臭氧清洗仪HWUVO系列

仪器简介

紫外臭氧清洗机是一款用于无机基材（比如：石英、硅片、金、镍、铝、砷化镓、氧化铝等）表面有机污染物去除的表面清洗设备。

低压紫外汞灯能够同时发射波长254nm和185nm的紫外光，在这两种短波紫外光的照射下，活化有机物分子与活性氧原子发生氧化反应，生成挥发性气体逸出样品表面，从而清除粘附在样品表面上的有机污染物。

应用领域

1、PCBA（印制电路板）生产中进行光清洗后，可以提高导线焊接时熔焊的接触面积，增加连接强度，进而提高印制电路板的质量；

2、LCD、OLED生产中进行光清洗后，可以提高基体表面润湿性，进而增强基体表面的粘合力；

3、集成电路领域，光清洗可以实现表面的原子清洁度，而且对芯片表面不会造成损伤；

4、可用于提高半导体粘合力、清洗彩色滤光片表面有机污染物、提高光学玻璃镀 膜质量等场景；

5、对清除石蜡、松香、油脂、人体体油、残余光刻胶、环氧树脂、焊剂；以及带有氧化膜的金属表面处理，去除导电聚酰亚胺粘合剂上的有机污染物，光清洗都是十分有效的方法。

功能特点

1.1采用5寸彩色触摸屏控制，可自主设定运行时间、加热温度、气路流量等流程参数；

1.2加热、升降一体式样品台，升降行程50mm, 便于样品与UV灯间距的调整；

1.3样品台恒温控制，智能PID温度调节，设置范围RT~200℃, 控温精度±1℃；

1.4流量、加热、UV灯分别自动单独控制启闭，处理过程中可手动中断；

1.5组合式处理方式，可自由选择：是否启用样品台加热功能、打开供氧气路；

1.6自动储存清洗参数设置，并生成历史记录，避免实验数据遗忘；

1.7安全可靠，设备运行过程中，清洗仓仓盖打开时自动关闭UV灯，并弹窗提示，避免紫外线伤害；

1.8标配流量数字化显示(可接入氧气或臭氧),可调节气路供气流量；

1.9上置式样品台及上翻式开盖设计，取放样品方便，操作简单快捷；

1.10波长254nm和185nm双波UV灯源，灯管寿命约为8000小时，配备UV反光罩使样品照射均匀化；

1.11一键化操作，减少工作强度。

技术参数