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旋涂机原理：
旋涂机（spin coater）是一种薄膜制备设备。
在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，在离心力
作用下，使胶液均匀地涂覆在基片表面上形成均
匀的薄膜。广泛应用于微电子、半导体、新能源、
化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，
基片，ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。
◆ 纳米材料制备：制备纳米粒子、纳米线和纳米薄膜等材料，其制备过程对材料结构和形貌具有一定的控制作用。
双重安全上盖，聚四氟嵌镶钢化玻璃，避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人，限度保证实验人员安全。
◆ 适用硅片、玻璃、石英、金属、GaAs，GaN，InP 等多种材料。
技术参数
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