科晶三靶磁控溅射仪

科晶三靶磁控溅射仪

型号：VTC-600-3HD

产品概述：

VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是zui新研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

主要特点：

• 可制备多种薄膜，应用广泛
• 体积小，操作简便
• 真空腔室、真空泵组整机模块化设计 ，控制电源为分体式设计，可根据用户实际需要调整购买需求。
• 可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪

磁控溅射头：

• 仪器中安装有3个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层
• 其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材
• 另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材
• 靶材尺寸要求：直径为50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
• 可以单独订购RF连接线作为备用
• 设备包含一台水冷机，用于靶头冷却

载样台：

• 载样台尺寸：φ140mm（zui大可放 置4"的基底）
• 载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调）
• 载样台zui高可加热温度为500℃

真空腔体：

• 真空腔体：φ300 mm×300 mm H，采用不锈钢制作
• 观察窗口：Φ100 mm
• 腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易

气体流量控制器：

• 仪器内部安装有2个质量流量计，量程为：0-100sccm
• 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
• 此系统运行需要Ar气，并且气瓶上安装有减压阀（设备中不包含）

真空系统：

• 配有一套GZK-103D分子泵系统（德国制作）
• 标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar

薄膜测厚：

• 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装 在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å
• LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据

产品外形尺寸：

• L1300mm×W660mm H1200mm
• 净重：160 kg

科晶三靶磁控溅射仪

型号：VTC-600-3HD

质量认证：CE认证

使用提示：

• 此设备为DIY设备，参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通
• 为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N）
• 在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
• 要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面
• 超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥 （4）真空烘箱除去水分。
• 等离子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。
• 制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。

警示：

• 注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体
• 气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用
• 溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶