科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪

科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪

型号：VTC-2DC2英寸

产品概述：

VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜，它是一款物美价廉的实验手。

主要参数：

• 输入电源：220V AC 50Hz
• 输出电压：600 VDC
• 输出功率：zui大500W
• 整机功率：1000W（包括真空泵）

溅射腔体：

• 采用石英腔体，尺寸：166mm OD x 150mm ID x250mm H（配置直靶头）
• 尺寸：166mm OD x 150mm ID x290mm H（配置带角度倾斜靶头）
• 密封法兰:直径为165mm，采用金属制作，密封采用O形密封圈

溅射头&样品台：

• 溅射头安装靶材直径为2英寸，同时可选配1英寸溅射头
• 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台，其与溅射头之间距离可调
• 样品台可加热，加热温度RT-500℃（RT为室温）
• 安装有一可手动操作的挡板
• zui大可制膜的直径为:2英寸（标配2英寸，如果需要更大尺寸请与我们销售联系）

真空系统：

• 安装有KF25真空接口
• 数字真空压力表（Pa）
• 此系统运行需要Ar气，并且气瓶上安装有减压阀（设备中不包含）
• 采用机械泵< 3.8E-2 Torr(参考值，详情请点击）
• 采用涡旋分子泵< 3.8E-5 Torr(参考值，详情请点击）
• 可在本公司选购各种真空泵

进气：

• 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶
• 设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流

靶材：

• 靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度)
• 可在本公司选购各种靶材

薄膜测厚仪（可选）：可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

产品外形尺寸：

540mm L x540 mm W x1100mm H

净重：70 kg（不包括泵）

科晶500W直流等离子磁控溅射镀膜仪

型号：VTC-2DC2英寸

质量认证：CE认证

• 使用提示：
  有时为了达到理想的薄膜厚度，可能需要多次溅射镀膜
• 为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N）
• 在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
• 要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面
• 超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。
• 等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。
• 制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。

警告：

• 注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。
• 气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
• 溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶