K775X高真空冷冻干燥仪

K775X高真空冷冻干燥仪

如果含水样品在空气中自然干燥或烘干，液体的表面张力将会使样品产生皱缩和变形。一种减少变形的方法是使样品冷冻干燥，其原理涉及物理学上所称的三态平衡点。水有固态、液态、气态三态，根据热力学相平衡理论，随压力的降低，水的冰点变化不大，而沸点却越来越低，向冰点靠近。当压力降到一定的真空度时，水的沸点和冰点重合，冰就可以不经液态而直接汽化为气体，这一过程称为升华。样品的真空冷冻干燥就是在水的三相点以下，即在低温低压条件下，使样品中低温预冻结的水分升华而脱去。升华速率是温度和真空度的函数，典型的干燥时间为几个小时或更长。冷冻干燥仪通常用于电子显微镜含水样品的预干燥处理及类似用途。

K775X高真空冷冻干燥仪能在-100^oC以下的低温工作。该仪器装有涡轮分子泵，其前级泵为旋转真空泵。低温是通过使用系统中的杜瓦瓶及液氮传导冷台获得，并且通过加注液氮的方法能维持低温时间达数小时或更长。

预先冷冻的样品通过盖子被装载到干燥腔室的冷台上，使用样品传输专用的样品座，该样品座配有方便的“锁定和定位”装载工具，可用于装载TEM载网和SEM样品桩两类样品。K775X系统一体化控制时间和温度，并且在干燥循环的末期，冷台可在样品移除前对其加热。该系统还配有氮气吹扫装置。

仪器特点：

•  涡轮分子泵抽真空，通常用于重要的冷冻干燥应用

•  液氮传导冷台，能获得-80℃以下的低温干燥环境

•  可编程电子控制模块，多功能自动操作

•  精确的时间和温度监控，可预设干燥温度和干燥周期等参数之干燥方案

理想情况下，冷冻干燥应在低于冰的再结晶点温度下进行，但这需要很长的干燥时间。在实践中，人们发现-60°C的干燥温度（如果采用15°C的冷却循环水装置-即配备加热器/冷却器选项）可在通过双级旋转机械真空泵实现的真空度水平下获得可接受的干燥结果，有关此类应用，请参见：K750X珀尔帖半导体制冷冷冻干燥仪。然而，对于某些精细的样品，有必要在低于-80℃的温度下以较低的升华速率干燥；这就需要比单独使用旋转机械泵抽真空更好的真空度，也需要更低的干燥温度，如液氮温度；对于此类应用，建议使用K775X冷冻干燥仪。

除了冷冻干燥仪之外，我们还提供三款临界点干燥仪：具有垂直腔室的K850临界点干燥仪；具有水平腔室的E3100临界点干燥仪；更大的K850WM型临界点干燥仪是为半导体应用而设计的，它可以临界点干燥6英寸的晶圆。这些干燥仪产品科研用途。