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磁控溅射镀膜机 Sputter

  • 产地
  • 所在地
  • 台湾
  • 上海上海市

更新时间:2020-08-11

有效日期:已过期

价格电议
磁控溅射 Sputter
上海伯东代理 AdNaNo 铠柏科技超高真空磁控溅射镀膜机. 真空度高 5E-10 Torr, 特比适合生长高质量的薄膜或超薄膜, 金属与绝缘材料. 使用德国 Pfeiffer 分子泵和美国 KRI 离子源.

磁控溅射镀膜机

 型号: Sputter 16
 特性:

 真空度 2E-10 torr
 Co Sputter system
 4 Sputter Cathodes
 4 axis substrate
 manipulator with rotation and XYZmovement
 SiC Heater
 Pumping throughput control

 


磁控溅射镀膜机

 型号: Sputter 24, 真空度可到 5E-10 torr
 超高真空磁控溅射 Sputter 24 擅长生长高质量的薄膜或是超薄 膜, 金属与绝缘材料. 在 24寸的小腔体里安装 6只磁控溅射, 保证 高效的抽气速度, 与友厂对比,氢和氧的污染系数好数十倍. 可制作与外延品质类似的薄膜..烘烤时可把磁铁拆下以保护磁铁不退磁. 客户可选择 RHEED, 在磁铁拆下时可检测样品薄膜的质量. Sputter 24 均匀性及重现性非常出色, 可以使用DC, RF, 脉冲直流电源. 标准材料与磁性材料均可使用. 可安排成共溅射与垂直溅射, 依客户设计安装.

 Sputter 24 与激光加热器联用可变为反应型磁控溅射, 可成长氧化物薄膜与氮化物薄膜等. 正下方可安装一只离子源, 可以提供样品清洗与辅助镀膜.
 特性:
 Custom-type SS316L electro-polished chamber
 • 5E-10 Torr Base Pressure
 • 2-in substrate size
 • 4-axes sample manipulator (XYZ, and Rotation)
 • SiC (or PBN) heating element with sample heating temperature: 900°C
 • 3 x 2-inch Magnetron Sputter cathodes (confocal or parallel)
 • DC, RF, or pulsed-DC power supplies
 • Thickness monitor
 • Pressure control system: upstream
 • FBBeam System Control Software

上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口的代理商 .我们真诚期待与您的合作!


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伯东企业(上海)有限公司

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商家概况

主营产品:
氦质谱检漏仪,分子泵,原子力显微镜,高低温测试机,离子源,真空阀门
公司性质:
经销商

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