供应CMX2000-德国超高速胶体磨，14400转实验室纳米胶体磨，21600转高剪切胶体磨，高转速胶体磨

德国超高速胶体磨，14400转实验室纳米胶体磨，21600转高剪切胶体磨，高转速胶体磨，高速胶体磨 , 高速剪切胶体磨 , 14000转胶体磨 , 分体式胶体磨

高速剪切胶体磨,高速胶体磨,德国高速胶体磨,分体式高速胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

高速剪切胶体磨的粉碎效果

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

详情请接洽上海依肯,段，手机，(同)

2 胶体磨磨头头的剪切速率（越大，效果越好）

3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

德国超高速胶体磨，14400转实验室纳米胶体磨，21600转高剪切胶体磨，高转速胶体磨，高速胶体磨 , 高速剪切胶体磨 , 14000转胶体磨 , 分体式胶体磨

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

IKN纳米胶体磨与国内胶体磨的性能比较：

一、转速和剪切速率：IKN纳米胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：IKN纳米胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：IKN纳米胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

IKN管线式高剪切胶体磨与卧式胶体磨比较：

转速和剪切力：

国内胶体磨，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速

线速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S

作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1

IKN高剪切胶体磨，9000/14000RPM通过皮带加速

线速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S

作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1

这是研磨粉碎的重要因素，相当于后者是前者的4-5倍

设备设计构造：

国内胶体磨，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴

IKN高剪切胶体磨，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。

密封：

国内胶体磨，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .

产品效果：

国内胶体磨，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀

IKN高剪切胶体磨，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米级分散乳化粉碎

高速剪切胶体磨,高速胶体磨

高速胶体磨	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMS 2000/4	700	14000	40	4	DN25/DN15
CMS 2000/5	5,000	10,500	40	11	DN40/DN32
CMS 2000/10	10,000	7,300	40	22	DN50/DN50
CMS 2000/20	30,000	4,900	40	45	DN80/DN65
CMS 2000/30	60,000	2,850	40	75	DN150/DN125
CMS 2000/50	100000	2,000	40	160	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。