CMD2000-创新改良型胶体磨，改性胶体磨，新型高速剪切胶体磨，大型胶体磨，中试胶体磨

创新改良型胶体磨，改性胶体磨，新型高速剪切胶体磨，大型胶体磨，中试胶体磨，改良型胶体磨，创新胶体磨，研磨分散胶体磨，研磨分散机，上海IKN技术，*创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。改良型胶体磨，这种*的设计，放眼世界，独上海IKN一家，更多关于改良型胶体磨的信息，请接洽上依肯！

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改良型胶体磨，研磨分散机，简单的来讲就是将高剪切胶体磨和高剪切分散机，合二为一了。同时具备胶体磨和分散机的功能，并且减少了胶体磨和分散机串连后的，时间差因素。从成本上来讲，原先两台设备的价格，现在用一台研磨分散机就可以完成，性价比更高。

CMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

CMD2000系列创新改良型胶体磨，改性胶体磨，新型高速剪切胶体磨，大型胶体磨，中试胶体磨，改良型胶体磨，创新胶体磨，研磨分散胶体磨，研磨分散机，研磨分散机的结构：研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

             
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

             
CMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散机的特点：

①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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